垂直濕製程設備

AVP-2000 系列

適用於: 顯影、蝕刻、去膜、水洗、烘乾…等製程

特色:

• 無水池效應
• 產能增加20%以上
• 電力節省20%以上
• 藥液損失減少
• 廢水量減少
• 可蝕刻5/1.5mil線路，蝕刻因子在3.5以上
• 垂直輸送, 不卡板、不刮傷板面
• 側蝕小
• 兩面均勻性>95%
• 設備體積小, 節省空間